氧化钙

应用领域

半导体与电子工业：高纯氧化钙主要用于半导体生产的扩散、掺杂工艺；亦用于半导体生产中的外延工序；在半导体制造中用作掺杂剂和溶剂。高纯氧化钙溅射靶材可用于半导体、化学气相沉积（CVD）和物理气相沉积（PVD）工艺。

光学镀膜与溅射靶材：高纯氧化钙是光学镀膜材料的重要品类（纯度99.9%-99.9999%），用于镀制复合膜、增透膜、保护膜、滤光片等。氧化钙溅射靶材可用于光学镀膜及显示器件制造。氧化钙蒸发镀膜材料可用于热蒸发、电子束蒸发等PVD工艺，适用于光学、保护性和电子涂层。

电子陶瓷（MLCC） ：作为电子材料原料用于MLCC（多层陶瓷电容器）制造。在卑金属电极MLCC中，需添加Ca来避免因还原作用造成的半导化及绝缘电阻下降。

催化剂与催化剂载体：高纯纳米氧化钙广泛适用于催化剂载体、医药载体等高附加值应用领域。含CaO的固体碱催化剂在温和温度下具有高活性，用于生物柴油合成的酯交换反应。

分析试剂与实验室应用：用作分析试剂，气体分析时用作二氧化碳吸收剂，光谱分析试剂；用于实验室氨气的干燥及醇类脱水。

高纯镁盐/钙盐前驱体领域：作为制备超高纯氧化镁、各类镁系及钙系化合物的核心前驱原料。

产品系列

氧化钙性质（理论）

氧化钙健康与安全信息

包装规格

成品包装：50公斤/桶，500公斤/托盘，吨袋包装

样品包装：500g/袋，1kg/瓶

关于氧化钙

高纯氧化钙为白色微细粉末，不纯者呈灰白色或淡黄色，具有吸湿性。相对密度3.2~3.4，熔点2572℃，沸点2850℃。遇水变为氢氧化钙并产生大量热；溶于酸、甘油和糖溶液，不溶于醇。易从空气中吸收二氧化碳及水分。产品具备高纯度与低杂质特性，建议置于干燥环境中密封保存，以此保障产品化学性质稳定。本产品依托分离萃取、化学沉淀组合工艺制备，杂质含量极低，批次稳定性优异。 纯度：99.999%（5N）