镨钕溅射靶材

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产品详情

镨溅射靶材是一种高纯度的功能材料，广泛应用于太阳能电池、半导体镀膜、光学镀膜及磁性材料领域。产品采用高纯金属镨经精密加工成型，具有优异的薄膜均匀性、致密性和溅射稳定性，适用于多种镀膜工艺（如磁控溅射、离子束溅射等）。

应用领域

1.太阳能电池薄膜：用于制备高效太阳能电池的光吸收层与界面层，提升光电转换效率。

2.半导体薄膜：用于集成电路、存储器及传感器中的功能薄膜制备。

3.光学薄膜：用于抗反射涂层、红外光学元件及特种光学镀膜。

4.磁性材料薄膜：用于磁存储、磁传感器及自旋电子器件制备。

5.陶瓷材料：用于高温超导、介电陶瓷及功能陶瓷薄膜制备。

属性（理论）

健康与安全信息

项目	说明
接触防护	操作时需佩戴防护手套、护目镜，避免皮肤或眼睛接触。
吸入风险	粉尘可能刺激呼吸道，建议在通风环境或佩戴防尘口罩下处理。
储存条件	存放于干燥、惰性气体（如氩气）保护的密封容器中，避免氧化与潮湿。
应急处置	如接触眼睛或皮肤，立即用清水冲洗并就医；若吸入粉尘，移至通风处。
环境影响	废弃靶材需按金属废料回收规范处理，避免随意丢弃。

包装规格

定制包装：可根据客户需求提供特殊包装方案。

关于镨钕溅射靶材

镨溅射靶材是高性能薄膜制备的关键原料，尤其在新能源、半导体和先进光学领域具有重要应用价值。其制备的薄膜具备优异的光学、电学和磁学性能，能够满足多种高新技术产业对功能材料的严苛要求。我们提供高纯度、多尺寸的靶材产品，并支持定制化加工，以满足科研与工业生产的多样化需求。

上海斯年金属材料有限公司