钇溅射靶材

产品详情

钇溅射靶材是一种高纯度的多功能薄膜材料，广泛应用于电子信息、光学镀膜、耐磨耐蚀涂层及高端装饰领域。产品以高纯度金属钪为原料，通过先进的熔炼、锻造和精密机加工工艺制成，具有优异的溅射稳定性、膜层均匀性和结构致密性，适用于多种物理气相沉积工艺（如磁控溅射、离子束溅射等）。

应用领域

1.电子信息产业：用于半导体器件、存储器及传感器的功能薄膜制备。

2.玻璃与光学镀膜：应用于增透膜、反射膜、低辐射玻璃及光学元件表面改性。

3.耐磨与耐蚀涂层：用于机械部件、工具、模具表面的耐磨防护与高温抗氧化涂层。

4.高档装饰镀层：用于珠宝、钟表、高端电子产品表面的装饰性与功能性镀层。

5.新能源与航空航天：用于热障涂层、燃料电池及特种功能薄膜。

属性（理论）

健康与安全信息

包装规格

定制包装：可根据客户需求提供专用包装方案，包括真空密封、惰性气体保护和防震抗压结构。

关于钇溅射靶材

钇溅射靶材是制备高性能功能薄膜的关键材料，通过掺入钇元素可显著提升薄膜的热稳定性、降低表面粗糙度并增强耐磨性与耐蚀性。该材料在电子信息、光学器件、表面工程及高端装饰等领域具有重要应用价值。我们提供多种规格与纯度等级的钇溅射靶材，并支持按客户需求进行定制开发，以满足不同领域的科研与产业化需求。